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ITO靶材在磁控溅射过程中的结瘤诱因分析

崔晓芳,  吴晓飞,  郗雨林

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崔晓芳, 吴晓飞, 郗雨林. ITO靶材在磁控溅射过程中的结瘤诱因分析[J]. 材料开发与应用, 2020, 35(1): 36-39,51.
引用本文: 崔晓芳, 吴晓飞, 郗雨林. ITO靶材在磁控溅射过程中的结瘤诱因分析[J]. 材料开发与应用, 2020, 35(1): 36-39,51.
shu
CUI Xiaofang, WU Xiaofei, XI Yulin. Study on Nodule-forming Causes of ITO Target During Magnetron Sputtering[J]. Development and Application of Materials, 2020, 35(1): 36-39,51.
Citation: CUI Xiaofang, WU Xiaofei, XI Yulin. Study on Nodule-forming Causes of ITO Target During Magnetron Sputtering[J]. Development and Application of Materials, 2020, 35(1): 36-39,51.
shu

ITO靶材在磁控溅射过程中的结瘤诱因分析

  • 中国船舶重工集团公司第七二五研究所, 河南 洛阳 471023

详细信息
    作者简介:

    崔晓芳,女,从事纳米材料研究

  • 中图分类号: TF124

Study on Nodule-forming Causes of ITO Target During Magnetron Sputtering

  • Luoyang Ship Material Research Institute, Luoyang 471023, China

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出版历程
  • 收稿日期:  2019-07-05
  • 网络出版日期:  2024-03-18

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