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不同络合剂对化学镀镍过程的影响

张道礼 龚树萍 周东祥

张道礼, 龚树萍, 周东祥. 不同络合剂对化学镀镍过程的影响[J]. 材料开发与应用, 2000, 15(1): 5-8. doi: 10.19515/j.cnki.1003-1545.2000.01.002
引用本文: 张道礼, 龚树萍, 周东祥. 不同络合剂对化学镀镍过程的影响[J]. 材料开发与应用, 2000, 15(1): 5-8. doi: 10.19515/j.cnki.1003-1545.2000.01.002
Zhang Daoli, Gong Shuping, Zhou Dongxiang. The Effect of Complexing Agents on the Processing of Electroless Nickel Plating[J]. Development and Application of Materials, 2000, 15(1): 5-8. doi: 10.19515/j.cnki.1003-1545.2000.01.002
Citation: Zhang Daoli, Gong Shuping, Zhou Dongxiang. The Effect of Complexing Agents on the Processing of Electroless Nickel Plating[J]. Development and Application of Materials, 2000, 15(1): 5-8. doi: 10.19515/j.cnki.1003-1545.2000.01.002

不同络合剂对化学镀镍过程的影响

doi: 10.19515/j.cnki.1003-1545.2000.01.002
基金项目: 

国家“863”计划资助项目(合同号715-006-070)

详细信息
    作者简介:

    张道礼:男,1963年11月生,1981年8月大学化学专业毕业,1991年7月于成都科技大学获无机化工专业工学硕士学位,现在华中理工大学电子科学与技术系任教,工学博士,主要从事电子功能陶瓷与传感器技术的研究在国内外发表学术论文近20篇。

The Effect of Complexing Agents on the Processing of Electroless Nickel Plating

  • 摘要: 用热力学平衡的方法研究了在BaTiO3系陶瓷PTCR上进行化学沉积金属镍电极时常用的醋酸盐-镍离子、甘氨酸-镍离子和柠檬酸盐-镍离子体系化学镀镍溶液中各种型体镍离子的分布。研究结果表明,加入络合剂会影响化学镀镍的速度,醋酸盐会使化学沉积速度升高,而甘氨酸和柠檬酸盐会使化学镀镍速度明显下降,这可能和混合电位及空间位阻、化学键合力等因素有关。选择合适的络合剂对于化学镀镍的稳定操作有着十分重要的意义。

     

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出版历程
  • 收稿日期:  1999-04-02
  • 网络出版日期:  2024-06-17

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