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42SiMn表面激光熔覆SiC纳米陶瓷涂层试验研究

王利蕊 田宗军 赵剑峰 花国然 张建华 黄因慧

王利蕊, 田宗军, 赵剑峰, 花国然, 张建华, 黄因慧. 42SiMn表面激光熔覆SiC纳米陶瓷涂层试验研究[J]. 材料开发与应用, 2003, 18(4): 27-29. doi: 10.19515/j.cnki.1003-1545.2003.04.008
引用本文: 王利蕊, 田宗军, 赵剑峰, 花国然, 张建华, 黄因慧. 42SiMn表面激光熔覆SiC纳米陶瓷涂层试验研究[J]. 材料开发与应用, 2003, 18(4): 27-29. doi: 10.19515/j.cnki.1003-1545.2003.04.008
Wang Lirui, Tian Zongjun, Zhao Jianfeng, Hua Guoran, Zhang Jianhua, Huang Yinhui. Laser Cladding of Nano-silicon Carbide on 42SiMn[J]. Development and Application of Materials, 2003, 18(4): 27-29. doi: 10.19515/j.cnki.1003-1545.2003.04.008
Citation: Wang Lirui, Tian Zongjun, Zhao Jianfeng, Hua Guoran, Zhang Jianhua, Huang Yinhui. Laser Cladding of Nano-silicon Carbide on 42SiMn[J]. Development and Application of Materials, 2003, 18(4): 27-29. doi: 10.19515/j.cnki.1003-1545.2003.04.008

42SiMn表面激光熔覆SiC纳米陶瓷涂层试验研究

doi: 10.19515/j.cnki.1003-1545.2003.04.008
基金项目: 

国家自然科学基金资助(59975046)

详细信息
  • 中图分类号: TG174.453

Laser Cladding of Nano-silicon Carbide on 42SiMn

  • 摘要: 采用激光熔覆工艺,在42SiMn表面制备了纳米SiC陶瓷涂层,对涂层的成分、物相、微观组织等进行了分析。结果表明,选用合理的工艺参数,利用激光熔覆可以得到质量较好的纳米SiC陶瓷涂层,但SiC晶粒尺寸有所长大,且熔覆过程中有分解反应,产生纳米Si与C。

     

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出版历程
  • 收稿日期:  2003-03-13
  • 网络出版日期:  2024-06-15

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