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纳米Al2O3强化铜基ODS 20的组织与性能

王永朝

王永朝. 纳米Al2O3强化铜基ODS 20的组织与性能[J]. 材料开发与应用, 2006, 21(3): 7-9,29. doi: 10.19515/j.cnki.1003-1545.2006.03.003
引用本文: 王永朝. 纳米Al2O3强化铜基ODS 20的组织与性能[J]. 材料开发与应用, 2006, 21(3): 7-9,29. doi: 10.19515/j.cnki.1003-1545.2006.03.003
WANG Yong-chao. Microstructure and Properties of Nanometer Al2O3 Strengthened Cu-based ODS 20[J]. Development and Application of Materials, 2006, 21(3): 7-9,29. doi: 10.19515/j.cnki.1003-1545.2006.03.003
Citation: WANG Yong-chao. Microstructure and Properties of Nanometer Al2O3 Strengthened Cu-based ODS 20[J]. Development and Application of Materials, 2006, 21(3): 7-9,29. doi: 10.19515/j.cnki.1003-1545.2006.03.003

纳米Al2O3强化铜基ODS 20的组织与性能

doi: 10.19515/j.cnki.1003-1545.2006.03.003
详细信息
  • 中图分类号: TG146.1+1

Microstructure and Properties of Nanometer Al2O3 Strengthened Cu-based ODS 20

  • 摘要: 研究了铜基ODS的组织与性能。结果表明,采用内氧化方法生产的铜基ODS 20,在纯铜基体上原位生成弥散、10nm左右的-γAl2O3微粒。该材料导电率约90%IACS,比纯铜导电率约降低10%。加工状态的室温强度可达到610MPa,在1173K保温1.5h,硬度达到室温硬度的86%,表明软化温度高于1173 K。经1273K+1.5h退火,晶粒平均直径小于1μm,Al2O3微粒不发生熔解、聚集、长大等现象。

     

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出版历程
  • 收稿日期:  2005-12-05
  • 网络出版日期:  2024-04-01

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