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反应等离子喷涂TiN陶瓷涂层

邹东利 阎殿然 何继宁 董艳春

邹东利, 阎殿然, 何继宁, 董艳春. 反应等离子喷涂TiN陶瓷涂层[J]. 材料开发与应用, 2006, 21(5): 11-13. doi: 10.19515/j.cnki.1003-1545.2006.05.004
引用本文: 邹东利, 阎殿然, 何继宁, 董艳春. 反应等离子喷涂TiN陶瓷涂层[J]. 材料开发与应用, 2006, 21(5): 11-13. doi: 10.19515/j.cnki.1003-1545.2006.05.004
ZOU Dong-li, YAN Dian-ran, HE Ji-ning, DONG Yan-chun. Reactive Plasma Spraying TiN Coatings[J]. Development and Application of Materials, 2006, 21(5): 11-13. doi: 10.19515/j.cnki.1003-1545.2006.05.004
Citation: ZOU Dong-li, YAN Dian-ran, HE Ji-ning, DONG Yan-chun. Reactive Plasma Spraying TiN Coatings[J]. Development and Application of Materials, 2006, 21(5): 11-13. doi: 10.19515/j.cnki.1003-1545.2006.05.004

反应等离子喷涂TiN陶瓷涂层

doi: 10.19515/j.cnki.1003-1545.2006.05.004
详细信息
    作者简介:

    邹东利,男,1980年生,河北省东光县人,汉族,硕士。主要研究方向:表面工程。

  • 中图分类号: TG174.442

Reactive Plasma Spraying TiN Coatings

  • 摘要: 采用气道型反应等离子喷涂技术, 制备了TiN陶瓷涂层, 通过XRD、SEM等手段对陶瓷涂层进行了相分析和横断面形貌分析。结果表明, 陶瓷涂层主要由TiN相组成, 并含有微量复杂成分的氧化物;TiN陶瓷涂层具有典型的层状组织结构, 且层与层之间结合较好;显微压痕和断口显示TiN涂层的韧性较Al2O3涂层有明显提高。

     

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出版历程
  • 收稿日期:  2006-05-16
  • 网络出版日期:  2024-06-19

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