电弧气化法制备纳米ITO粉末及高密度ITO靶的研制

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电弧气化法制备纳米ITO粉末及高密度ITO靶的研制

张雪凤, 潘震, 王政红, 邢朋飞

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张雪凤, 潘震, 王政红, 邢朋飞. 电弧气化法制备纳米ITO粉末及高密度ITO靶的研制[J]. 材料开发与应用, 2009, 24(3): 1-3,7. doi: 10.19515/j.cnki.1003-1545.2009.03.001

引用本文:

张雪凤, 潘震, 王政红, 邢朋飞. 电弧气化法制备纳米ITO粉末及高密度ITO靶的研制[J]. 材料开发与应用, 2009, 24(3): 1-3,7. doi: 10.19515/j.cnki.1003-1545.2009.03.001

ZHANG Xue-feng, PAN Zhen, WANG Zheng-hong, XING Peng-fei. Preparation of ITO Nano Powder by Arc Evaporating and Development of Ultra High Density ITO Target[J]. Development and Application of Materials, 2009, 24(3): 1-3,7. doi: 10.19515/j.cnki.1003-1545.2009.03.001

Citation:

ZHANG Xue-feng, PAN Zhen, WANG Zheng-hong, XING Peng-fei. Preparation of ITO Nano Powder by Arc Evaporating and Development of Ultra High Density ITO Target[J]. Development and Application of Materials, 2009, 24(3): 1-3,7. doi: 10.19515/j.cnki.1003-1545.2009.03.001

张雪凤, 潘震, 王政红, 邢朋飞. 电弧气化法制备纳米ITO粉末及高密度ITO靶的研制[J]. 材料开发与应用, 2009, 24(3): 1-3,7. doi: 10.19515/j.cnki.1003-1545.2009.03.001

引用本文:

张雪凤, 潘震, 王政红, 邢朋飞. 电弧气化法制备纳米ITO粉末及高密度ITO靶的研制[J]. 材料开发与应用, 2009, 24(3): 1-3,7. doi: 10.19515/j.cnki.1003-1545.2009.03.001

ZHANG Xue-feng, PAN Zhen, WANG Zheng-hong, XING Peng-fei. Preparation of ITO Nano Powder by Arc Evaporating and Development of Ultra High Density ITO Target[J]. Development and Application of Materials, 2009, 24(3): 1-3,7. doi: 10.19515/j.cnki.1003-1545.2009.03.001

Citation:

ZHANG Xue-feng, PAN Zhen, WANG Zheng-hong, XING Peng-fei. Preparation of ITO Nano Powder by Arc Evaporating and Development of Ultra High Density ITO Target[J]. Development and Application of Materials, 2009, 24(3): 1-3,7. doi: 10.19515/j.cnki.1003-1545.2009.03.001

电弧气化法制备纳米ITO粉末及高密度ITO靶的研制

doi: 10.19515/j.cnki.1003-1545.2009.03.001

1. 中国船舶重工集团公司第七二五研究所, 河南洛阳 471039;
2. 广州广船国际股份有限公司军代表室, 广东广州 510000

中图分类号: TB383
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出版历程
- 收稿日期: 2009-01-08
- 网络出版日期: 2024-03-30

Preparation of ITO Nano Powder by Arc Evaporating and Development of Ultra High Density ITO Target

1. Luoyang Ship Materials Research Institute, Luoyang 471039, China;
2. Guang zhou Shipyard lnternational Co. Ltd, Guangzhou 510000, China

摘要: 以纯度为99.99%的纯金属In和Sn为原料,采用电弧气化法制备了单一立方In₂O₃结构的纳米ITO合金粉末,所制备的粉末以四方和类球形两种形貌存在,粒度主要位于30~70nm,分散性良好;并在此基础上采用常压烧结制备了相对密度高达99.74%,平均电阻率达到1.52×10^-4Ω.cm,结构成份均匀,晶粒尺寸5~10μm左右的超高密度ITO靶材。
- 电弧气化法 /
- 纳米 /
- ITO粉 /
- ITO靶
Abstract: ITO nano-powders was prepared by arc evaporating with 99.99% In and Sn as raw materials.The prepared powder has single cubic In₂O₃ phase in tetragonal and near-sphere pattern.The particle size of the powder is 30~70nm and the dispersity of the powder is good.ITO target with grain size of 5~10μm was prepared with the powder by non-pressure sintering.The ITO target has a homogeneous structure,a relative density of 99.74%,and a average resistivity of 1.52×10^-4Ω·cm.
- Arc evaporating method /
- Nano /
- ITO powder /
- ITO target

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