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溅射钽靶材用高纯钽粉工艺研究

李仲香 杨国启 陈学清 程越伟 李慧 张健康

李仲香, 杨国启, 陈学清, 程越伟, 李慧, 张健康. 溅射钽靶材用高纯钽粉工艺研究[J]. 材料开发与应用, 2017, 32(3): 67-72. doi: 10.19515/j.cnki.1003-1545.2017.03.012
引用本文: 李仲香, 杨国启, 陈学清, 程越伟, 李慧, 张健康. 溅射钽靶材用高纯钽粉工艺研究[J]. 材料开发与应用, 2017, 32(3): 67-72. doi: 10.19515/j.cnki.1003-1545.2017.03.012
LI Zhongxiang, YANG Guoqi, CHEN Xueqing, CHENG Yuewei, LI Hui, ZHANG Jiankang. Study on Production Process of High Pure Tantalum Powder for Tantalum Target[J]. Development and Application of Materials, 2017, 32(3): 67-72. doi: 10.19515/j.cnki.1003-1545.2017.03.012
Citation: LI Zhongxiang, YANG Guoqi, CHEN Xueqing, CHENG Yuewei, LI Hui, ZHANG Jiankang. Study on Production Process of High Pure Tantalum Powder for Tantalum Target[J]. Development and Application of Materials, 2017, 32(3): 67-72. doi: 10.19515/j.cnki.1003-1545.2017.03.012

溅射钽靶材用高纯钽粉工艺研究

doi: 10.19515/j.cnki.1003-1545.2017.03.012
基金项目: 

国家863计划项目(2012BAE06B03)

国家科技支撑计划项目(715-005-0140)

详细信息
    作者简介:

    李仲香,1980年出生,女,高级工程师,主要从事钽铌等功能材料的研究。

  • 中图分类号: TG146.4

Study on Production Process of High Pure Tantalum Powder for Tantalum Target

  • 摘要: 分析了高纯钽粉生产的技术特点,介绍了一种改进的钽靶材用高纯钽粉的生产方法。采用高温脱氢(900~950℃)和低温脱氧(700~800℃)分步进行的工艺,有利于钽粉氧、氢、镁含量及粒度的控制,所得样品兼具低氧和小粒度的特点。采用真空热处理(700~800℃)工艺可以有效除去脱氧后残余的金属镁、酸洗带入的H、F等杂质,确保颗粒不长大,同时使杂质含量得到了很好的控制。

     

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出版历程
  • 收稿日期:  2016-12-01
  • 网络出版日期:  2024-03-18

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